emc易倍网页版本设备需要大量的精密陶瓷部件。由于陶瓷具有高硬度、高弹性模量、高耐磨、高绝缘、耐腐蚀、低膨胀等优点，可用作硅片抛光机、外延/氧化/扩散等热处理设备、光刻机、沉积设备，emc易倍网页版本刻蚀设备，离子注入机等设备的零部件。emc易倍网页版本陶瓷有氧化铝、氮化硅、氮化铝、碳化硅等，在emc易倍网页版本设备中，精密陶瓷的价值约占16%左右。精密陶瓷作为第三代新兴材料，已经被引入到各种装备之中，充当着重要的角色，这为精密陶瓷的应用提供了广阔的用武之地。

随着芯片生产的技术的不断提高，emc易倍网页版本制造设备持续向精密化、复杂化演变，高精密陶瓷关键部件的技术要求也越来越高。近年来东莞emc易倍持续为国内外emc易倍网页版本企业加工了众多高精密的emc易倍网页版本零部件，如果您也有这样的加工需求可以联系我们。

其中陶瓷部件包括：

1、氧化铝(Al₂O₃)

2、碳化硅(SiC)

3、氮化铝(AIN)

4、氮化硅(Si3N4)

5、氧化钇（Y2O3）

氧化铝：

氧化铝在emc易倍网页版本装备中使用最为广泛的精密陶瓷材料。具有材料结构稳定，机械强度高，硬度高，熔点高，抗腐蚀，化学稳定性优良，电阻率大，电绝缘性能好等优点，在emc易倍网页版本设备中应用广泛。

在emc易倍网页版本刻蚀设备中，刻蚀机腔室材料作为晶圆污染的主要来源，等离子刻蚀对其影响程度决定了晶圆的良率、质量、刻蚀工艺的稳定性等。因此，刻蚀机腔室材料的选用尤为重要。当前，主要采用高纯Al₂O₃涂层或Al₂O₃陶瓷作为刻蚀腔体和腔体内部件的防护材料。

碳化硅

碳化硅具有高导热性、高温机械强度、高刚度、低热膨胀系数、良好的热均匀性、耐腐蚀性、耐磨耗性等特性。碳化硅在高达1400℃的极端温度下，其仍能保持良好的强度。采用碳化硅陶瓷的研磨盘由于硬度高而磨损小，且热膨胀系数与硅晶片基本相同，因而可以高速研磨抛光。

在硅晶片生产时，需要经过高温热处理，常使用碳化硅夹具运输，其耐热、无损，可在表面涂敷类金刚石（DLC）等涂层，可增强性能，缓解晶片损坏，同时防止污染扩散。此外，碳化硅陶瓷还可应用在XY平台、基座、聚焦环、抛光板、晶圆夹盘、真空吸盘、搬运臂、炉管、晶舟、悬臂桨等。

氮化铝

高纯氮化铝陶瓷具有卓越的热传导性，耐热性、绝缘性，热膨胀系数接近硅，且具有优异的等离子体抗性，产品热量分布均匀。可应用于晶片加热的加热器、静电夹盘等。

氮化硅

氮化硅(Si3N4）是断裂韧性高、耐热冲击性强、高耐磨耗性、高机械强度、耐腐蚀的材料。可应用于emc易倍网页版本设备的平台、轴承等部件。

氧化钇

氧化钇（Y2O3）为立方结构，熔点高，化学和光化学稳定性好，光学透明性范围较宽，声子能量低，容易实现稀土离子的掺杂具有卓越的等离子体抗性，对于务必避免颗粒污染的emc易倍网页版本加工设备应用而言是理想之选，因为它能降低设备维护要求，从而提高生产力。氧化钇目前主要用途用在刻蚀陶瓷环等

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